氧化铈抛光粉的主要生产工艺及设备
安华玻璃耗材 / 2012-05-24

  针对于氧化铈抛光粉有专业的生产工艺与设备,安华玻璃制品专业研制生产玻璃抛光粉,有着多年的丰富经验。经过多年的发展与进步我们有最专业的团队与设备,各方面都达到了国际标准。只有专业的技术人员与设备,才能研制出高质量的产品。

  1.低氧化铈抛光粉的工艺过程与指标

  主要工艺过程为:原料→溶解→复盐沉淀→过滤洗涤→高温煅烧→粉碎→细磨筛分→低级铈系氧化铈抛光粉产品。以少铕氯化稀土(w(REO)≥45%,w(CeO2)≥48%)为原料,以合成中间体(沉淀剂)进行复盐沉淀等处理,可制备氧化铈抛光粉产品。

  主要指标:产品中w(REO)=85%~90%,w(CeO2)=48%~50%;稀土回收率约95%;平均粒径0.5μm~1.5μm(或粒度320目~400目)。该产品适合于光学玻璃等的高速抛光之用。广州安华磨具用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿(w(REO)≥60%,w(CeO2)≥48%)为原料,直接用化学和物理的方法加工处理,如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级铈系氧化铈抛光粉产品。

  主要工艺过程为:原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级铈系氧化铈抛光粉产品。 主要设备:球磨机,混料机,焙烧炉,筛分机等。主要指标:产品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.玻璃抛光粉产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。 目前,国内生产的低级铈系氧化铈抛光粉的量最多,约占总产量的90%以上。

  2.中氧化铈抛光粉的工艺过程与指标

  主要指标:产品中w(REO)=90%,w(CeO2)=80%~85%;稀土回收率约95%;平均粒度0.4μm~1.3μm.该产品适用于高速抛光,比高级铈氧化铈抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。

  用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)为原料,以化学方法预处理得稀土盐溶液,加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%~85%的中级铈系氧化铈抛光粉产品。其主要的工艺r过程为:原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级铈系的氧化铈抛光粉产品。安华磨具主要设备:氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。

  3.高氧化铈抛光粉的工艺过程与指标

  主要工艺过程为:原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→高级铈系氧化铈抛光粉产品。以稀土混合物分离后的氧化铈为原料,以物理化学方法加工成硬度大,粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末羊毛轮产品。

  主要指标:产品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm(或粒度为200目~300目),晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高铈抛光粉最早代替了古典抛光的氧化铁粉(红粉)。

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